Heildsölu TiAlSi sputtering Target High Purity Thin Film Pvd húðun Sérsmíðuð Framleiðandi og birgir |Ríkur

Títan álkísill

TiAlSi sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsmíðuð Valin mynd

Stutt lýsing:

Flokkur	Alloy sputtering Target
Efnaformúla	TiAlSi
Samsetning	Títan álkísill
Hreinleiki	99,5%，99,9%，99,95%
Lögun	Plötur, dálkamiðar, bogaskautar, sérsniðnar
Framleiðsluferli	PM
Stærð í boði	L≤2000mm, B≤200mm

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

Títan Ál Silicon Sputtering Marklýsing

Títan Ál Kísil sputtering skotmark er framleitt með kraftmálmvinnslu.
Títan Ál Kísilblendi er venjulega notað við framleiðslu bifreiðavéla.Það hefur framúrskarandi háhitahæfileika og slitþol.Notkun Ti-Al-Si álfelgur gæti lengt líftíma vélarhluta verulega um 35%.Hvað varðar notkun þess á mótorhjólum og bifreiðahjólum, þá sýnir það betri steypingarhæfni, vinnsluhæfni, þreytuþol og höggþol en A356 ál.

Fljótt storknað álblendi væri hægt að fá með hröðu storknunarferli sem kallast "bræðslusnúningur", sem framkallar betri eiginleika í samanburði við hefðbundna álblöndu, ásamt fínkornaðri örbyggingu og meiri sveigjanleika í málmblöndunni.Það er hugsanlegt efni í flugvélaiðnaði til að skipta um títan grunnblendi sem notað er í 150-300 ℃.

Meðan á niðurfellingu TiAlSi-markmiða stendur, gæti TiAlSi/TiAlSiN myndast hvert fyrir sig sem fjöllag af hágæða kristallalögum með að mestu teningsbyggingu.Þessi marglaga húðun hefur gert þessi efni fyrir harða húðun til að auka endingu tækja sem notuð eru í erfiðu umhverfi.

Títan Ál Silicon Sputtering Target Packaging

Títan álkísill sputter markið okkar er greinilega merkt og merkt að utan til að tryggja skilvirka auðkenningu og gæðaeftirlit.Mikil aðgát er höfð til að forðast skemmdir sem gætu orðið við geymslu eða flutning.

Fáðu samband

Títan álkísill sputtering markmið RSM er af mjög miklum hreinleika og einsleitum.Þau eru fáanleg í ýmsum gerðum, hreinleika, stærðum og verði.Við sérhæfum okkur í að framleiða háhreint þunnfilmuhúðunarefni með framúrskarandi afköstum sem og hæsta mögulega þéttleika og minnstu mögulegu meðalkornstærð til notkunar í molthúðun、skreyting、bílahlutir、lágt E gler、hálfleiðara samþætt hringrás、þunn filma viðnám, grafískur skjár, loftrými, segulmagnaðir upptökur, snertiskjár, þunn filmu sólarrafhlaða og önnur líkamleg gufuútfelling (PVD) forrit.Vinsamlegast sendu okkur fyrirspurn um núverandi verðlagningu á sputtering skotmörk og önnur útfellingarefni sem ekki eru skráð.

Fyrri: TiAlV sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsniðin

Næst: TiAl sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsniðin