Nútíma byggingar fóru að nota stór svæði af glerlýsingu.Þessi þáttur gefur okkur bjartari herbergi og breiðari sjóndeildarhring.Aftur á móti er hitinn sem berst í gegnum glerið miklu hærri en veggirnir í kring og orkunotkun alls byggingarinnar eykst verulega..
Samanborið við nýtingarhlutfall meira en 90% af lággeislunargleri í þróuðum löndum er skarpskyggni lág-E glers í Kína aðeins um 12% og Kína hefur enn mikið pláss til þróunar. Hins vegar, samanborið við venjulegt gler og á netinu lág-E gler, framleiðslukostnaður offline LowE gler er hár, sem takmarkar beitingu að vissu marki. Innlendum glervinnslufyrirtækjum ber skylda til að draga stöðugt úr framleiðslukostnaði húðunarvara, flýta fyrir innleiðingu, spara orku, bæta umhverfið og ná félagslegri sjálfbærri þróun.
1、Áhrif skotmarksforms
Stór húðunarsvæði nota oft markefni í samræmi við lögun, þar með talið plana stefnu og snúningsstefnu.Almenn slétt markmið eru koparmarkmið, silfurmarkmið,Ni-Cr skotmark og grafít skotmark.Almennt snúningsmarkmiðið hefur sink álmarkmið, sink tini mark, kísil ál mark, tin mark, títan oxíð mark, sink oxíð ál mark og svo framvegis. Markformið mun hafa áhrif á stöðugleika og filmu eiginleika segulóms sputtering húðunar og nýtingu markmiðshlutfallið er mjög hátt.Eftir að hafa breytt lögunaráætlun markmiðsins er hægt að bæta gæði og framleiðslugetu húðunar og spara kostnaðinn.
2、Áhrif á hlutfallslegan þéttleika og úthreinsun skotmarks
Hlutfallslegur þéttleiki í markinu er hlutfall hagnýts þéttleika og fræðilegs þéttleika marksins, fræðilegur þéttleiki eins þátta marksins er kristalþéttleiki og fræðilegur þéttleiki málmblöndunnar eða blöndumarkmiðsins er reiknaður út samkvæmt fræðilegu þéttleiki hvers frumefnis og hlutfall í málmblöndunni eða blöndunni..Markfyrirkomulag varmaúðans er gljúpt, mjög súrefnisríkt (jafnvel með lofttæmi, framleiðsla á oxíðum og nitursamböndum í málmblöndunni er óumflýjanleg) og útlitið er grátt og skortir málmgljáa.Aðsoguð óhreinindi og raki eru aðal uppsprettur mengunar.
3、Áhrif markagnastærðar og kristalstefnu
Í sömu þyngd skotmarks er markið með litla kornastærð hraðar en markið með stóra kornastærð.Þetta er fyrst og fremst vegna þess að auðvelt er að ráðast inn á agnamörkin í því ferli að skvetta, því meira sem agnamörkin eru, því hraðar myndast filmu.Kornastærðin hefur ekki aðeins áhrif á sputtering hraða, heldur hefur hún einnig áhrif á gæði filmumyndunar. Til dæmis, í framleiðsluferli EowE vara, virkar NCr sem viðhaldslag innrauða endurskinslagsins Ag og gæði þess hafa mikil áhrif á húðunarvörur.Vegna stórs útrýmingarstuðuls NiCr filmulagsins er það almennt þunnt (um 3nm). Ef kornastærðin er of stór styttist sputtering tíminn, þétting filmulagsins verður verri, viðhaldsáhrif Ag lagsins minnkar, og oxunarhúðun húðunarafurðanna kemur fram.
Niðurstaða
Formskipulag markefnis hefur aðallega áhrif á nýtingarhlutfall markefnis.Sanngjarn stærðarskipulagning getur bætt nýtingarhlutfall markefnis og sparað kostnaðinn. Því minni sem kornastærðin er, því hraðari húðunarhraði, því betri er einsleitni.Því hærra sem hreinleiki og þéttleiki er, því lægra sem porosity er, því betri eru filmugæðin og því minni líkur eru á að losunargjall minnki.
Birtingartími: 27. apríl 2022