Þunn filman á húðuðu skotmarkinu er sérstakt efnisform.Í tiltekinni átt þykktar er kvarðinn mjög lítill, sem er smásæ mælanlegt magn.Þar að auki, vegna útlits og viðmóts filmuþykktar, lýkur samfellu efnisins, sem gerir kvikmyndagögnin og markgögnin mismunandi sameiginlega eiginleika.Og markmiðið er aðallega notkun segulómsúðunarhúðunar, ritstjóri Beijing Richmat mun taka okkur til að skilja meginreglan og færni sputtering húðun.
一、Meginreglan um sputtering húðun
Sputtering húðun kunnátta er að nota jón sprengjuárás miða útlit, miða atóm eru högg út af fyrirbæri þekktur sem sputtering.Atómin sem eru sett á yfirborð undirlagsins eru kölluð sputtering húðun. Almennt er gasjónun framleidd með gaslosun og jákvæðu jónirnar sprengja bakskautsmarkmiðið á miklum hraða undir áhrifum rafsviðs og slá út atóm eða sameindir bakskautsmarkmið, og fljúga að yfirborði undirlagsins sem á að setja í filmu. Einfaldlega talað, sputtering húðun notar lágþrýstings óvirka gasglóa til að mynda jónir.
Almennt er sputtering filmuhúðunarbúnaðurinn búinn tveimur rafskautum í lofttæmishólfinu og bakskautsmarkmiðið samanstendur af húðunargögnum.Tómarúmhólfið er fyllt með argongasi með þrýstingi 0,1 ~ 10Pa.Glóðafhleðsla á sér stað við bakskautið undir áhrifum neikvæðrar háspennu 1~3kV dc eða RF spennu 13,56mhz. Argonjónir sprengja markyfirborðið og valda því að sputtered markatómin safnast fyrir á undirlaginu.
二、Sputtering húðun færni eiginleika
1、 Fljótur stöflunarhraði
Munurinn á háhraða magnetron sputtering rafskautinu og hefðbundnu tveggja þrepa sputtering rafskautinu er að segullinn er staðsettur fyrir neðan skotmarkið, þannig að lokaða ójafna segulsviðið á sér stað á yfirborði skotmarksins。Lorentz krafturinn á rafeindunum er í átt að miðju. af ólíka segulsviðinu.Vegna fókusáhrifanna sleppa rafeindirnar minna.Ósamleita segulsviðið fer í kringum markyfirborðið og efri rafeindirnar sem eru teknar í misleita segulsviðinu rekast ítrekað á gassameindirnar, sem bætir háa umbreytingarhraða gassameindanna. Þess vegna eyðir háhraða segulraunsputting litlum orku, en getur fengið mikla húðunarvirkni, með tilvalin losunareiginleika.
2、 Hitastig undirlagsins er lágt
Háhraða magnetron sputtering, einnig þekkt sem lághita sputtering.Ástæðan er sú að tækið notar úthleðslur í rými rafsegulsviða sem eru beint hvert á annað.Auka rafeindirnar sem koma fyrir utan á skotmarkinu, hver í annarri.Undir virkni beins rafsegulsviðs er það bundið nálægt yfirborði skotmarksins og hreyfist eftir flugbrautinni í hringlaga rúllínu og bankar ítrekað á gassameindirnar til að jóna gassameindirnar. Saman missa rafeindirnar sjálfar orku sína smám saman í gegnum endurteknum höggum, þar til orka þeirra er næstum alveg týnd áður en þeir geta sloppið frá yfirborði skotmarksins nálægt undirlaginu.Vegna þess að orka rafeindanna er svo lág hækkar hitastig skotmarksins ekki of hátt.Það er nóg til að vinna gegn hitahækkun undirlagsins sem stafar af rafeindasprengjuárás venjulegs díóðaskots sem lýkur frostvæðingunni.
3, Mikið úrval af himnubyggingum
Uppbygging þunnra filma sem fæst með lofttæmi uppgufun og inndælingarútfellingu er nokkuð frábrugðin þeirri sem fæst með þynningu á lausu efni.Öfugt við almennt fyrirliggjandi föst efni, sem eru flokkuð sem í meginatriðum sömu uppbyggingu í þrívídd, eru filmurnar sem eru settar í gasfasann flokkaðar sem misleitar byggingar. Þunnu filmurnar eru súlulaga og hægt er að rannsaka þær með rafeindasmásjá.Súlulaga vöxtur filmunnar stafar af upprunalegu kúptu yfirborði undirlagsins og nokkrum skuggum á áberandi hlutum undirlagsins.Hins vegar er lögun og stærð súlunnar nokkuð mismunandi vegna hitastigs undirlagsins, yfirborðsdreifingar staflaðra atóma, greftrunar óhreinindaatóma og innfallshorns innfallsatóma miðað við yfirborð undirlagsins.Á of háu hitastigi hefur þunn filman trefjabygging, háþéttleika, sem samanstendur af fínum súlulaga kristöllum, sem er einstök uppbygging sputtering kvikmyndarinnar.
Sputtering þrýstingur og filmu stöflun hraði hafa einnig áhrif á uppbyggingu filmunnar.Vegna þess að gassameindir hafa þau áhrif að bæla dreifingu atóma á yfirborði undirlagsins eru áhrif hás sputterþrýstings hentugur fyrir hitastigsfall undirlagsins í líkaninu.Þess vegna er hægt að fá gljúpar filmur sem innihalda fínt korn við háan sputterþrýsting.Þessi litla kornastærðarfilm er hentug fyrir smurningu, slitþol, yfirborðsherðingu og önnur vélræn notkun.
4、 Raða samsetningu jafnt
Efnasambönd, blöndur, málmblöndur o.s.frv., sem er hæfilega erfitt að húða með lofttæmi uppgufun vegna þess að gufuþrýstingur íhlutanna er mismunandi eða vegna þess að þeir aðgreina sig við upphitun. Sputtering húðunaraðferð er að gera markyfirborðslag atóma lag fyrir lag við undirlagið, í þessum skilningi er fullkomnari kvikmyndagerð færni.Alls konar efni er hægt að nota í iðnaðarhúðuframleiðslu með sputtering.
Birtingartími: 29. apríl 2022