Kísilsputtering skotmark

Sumir viðskiptavinir spurðu um kísilsputteringsmarkmið.Nú munu samstarfsmenn frá RSM tæknideild greina kísilsputtering markmið fyrir þig.

Kísilsputtering target er búið til með því að sputtera málm úr kísilhleif.Hægt er að framleiða skotmarkið með ýmsum ferlum og aðferðum, þar á meðal rafhúðun, sputtering og gufuútfellingu.Ákjósanlegar útfærslur veita ennfremur viðbótarhreinsunar- og ætingarferla til að ná æskilegum yfirborðsaðstæðum.Markmiðið sem framleitt er er mjög hugsandi, með grófleika sem er minna en 500 angström og tiltölulega hröðum brennsluhraða.Filman sem er útbúin af kísilmarkmiðinu hefur lága agnafjölda.

Kísilsputtermið er notað til að setja þunnar filmur á efni sem byggir á kísil.Þeir eru almennt notaðir í skjá, hálfleiðara, sjón, sjónsamskiptum og glerhúðun forritum.Þeir eru einnig hentugir til að æta hátæknihluta.Hægt er að nota N-gerð sílikon sputtering markmið í mismunandi tilgangi.Það á við á mörgum sviðum, þar á meðal rafeindatækni, sólarsellur, hálfleiðara og skjái.

Kísilsputtering markið er sputtering aukabúnaður sem notaður er til að setja efni á yfirborðið.Venjulega samanstendur það af kísilatómum.Sputtering ferli krefst nákvæms magns af efni, sem getur verið mikil áskorun.Notkun ákjósanlegs sputteringsbúnaðar er eina leiðin til að búa til íhluti sem byggjast á kísil.Það er athyglisvert að kísilsputtering markið er ekki notað í sputtering ferlinu.