Markmiðið hefur mörg áhrif og markaðsþróunarrýmið er mikið.Það er mjög gagnlegt á mörgum sviðum.Næstum allur nýr sputtering búnaður notar öfluga segla til að spíra rafeindir til að flýta fyrir jónun argon í kringum skotmarkið, sem leiðir til aukningar á líkum á árekstri milli marksins og argonjóna.Nú skulum við líta á hlutverk sputtering skotmarks í lofttæmihúð.
Bættu sputtering hraða.Almennt er DC sputtering notuð fyrir málmhúðun, en RF AC sputtering er notuð fyrir óleiðandi keramik segulmagnaðir efni.Grundvallarreglan er að nota glóðafhleðslu til að lemja argon (AR) jónir á yfirborð skotmarksins í lofttæmi, og katjónirnar í plasma munu flýta fyrir að þjóta á neikvæða rafskautsyfirborðið sem skvetta efnið.Þetta högg mun láta efnið í markinu fljúga út og setjast á undirlagið til að mynda filmu.
Almennt séð eru nokkrir eiginleikar filmuhúðunar með sputtering ferli: (1) málm, málmblöndu eða einangrunarefni er hægt að gera í filmugögn.
(2) Við viðeigandi aðstæður er hægt að búa til kvikmyndina með sömu samsetningu úr mörgum og óreglulegum skotmörkum.
(3) Hægt er að framleiða blönduna eða efnasambandið af markefni og gassameindum með því að bæta við súrefni eða öðrum virkum lofttegundum í útblástursloftinu.
(4) Hægt er að stjórna inntaksstraumnum og sputteringstímanum og auðvelt er að fá hánákvæma filmuþykkt.
(5) Í samanburði við aðra ferla er það stuðlað að framleiðslu á samræmdum kvikmyndum á stóru svæði.
(6) Sputtered agnirnar eru nánast óbreyttar af þyngdaraflinu og hægt er að raða stöðu skotmarks og undirlags frjálslega.
Birtingartími: 17. maí-2022