Nú á dögum, mobile símar eru orðnir það ómissandi fyrir almenning og farsímaskjáir verða sífellt háþróaðri.Alhliða skjáhönnun og smáhönnun eru mikilvægt skref í gerð farsíma LCD.Veistu hvað það er— Húðun: notaðu segulómstrautstækni til að sprauta málmmólýbden úr mólýbdenmarki yfir í fljótandi kristalgler.Hér bneðarlega,Þessi grein mun gefa þér sérstaka kynningu.
Sputtering, sem háþróuð tækni til að útbúa þunnfilmugögn, hefur tvo eiginleika, „háhraða“ og „lágt hitastig“.Það notar jónirnar sem jónagjafinn framleiðir til að flýta fyrir samsöfnun og samþættingu háhraða jónaflæðis í lofttæmi, sprengja föstu yfirborðið og jónirnar skiptast á hreyfiorku við atómin á föstu yfirborðinu, þannig að atómin á föstu yfirborðinu Yfirborð yfirgefa markið og setjast á yfirborð undirlagsins og mynda síðan nanó (eða míkron) filmu.Skeljaða fasta efnið er gögn um þunna filmur sem settar eru fram með sputtering, sem er kallað sputtering target.
Í rafeindaiðnaðinum eru mólýbdensputtering markmið aðallega notuð fyrir flatskjái, rafskaut og raflögn í þunnfilmu sólarsellur og hindrunarefni hálfleiðara.
Þetta er byggt á háu bræðslumarki, mikilli leiðni, lítilli sértækri viðnám, góðu tæringarþoli og góðri umhverfisverndarvirkni mólýbdens.
Áður voru raflagnagögn flatskjás aðallega króm, en með stórum og mikilli nákvæmni flatskjás er meira og meira þörf á gögnum sem eru minni en viðnám.Þar að auki er umhverfisvernd einnig nauðsynlegt atriði.Mólýbden hefur þann kost að sérstakt viðnám og filmuálag er aðeins 1/2 af krómi og það er ekkert vandamál vegna umhverfismengunar, svo það er orðið eitt af efnum sputtering miða fyrir flatskjá.
Að auki getur notkun mólýbdens í LCD íhlutum bætt verulega virkni LCD í birtustigi, birtuskilum, lit og endingartíma.TFT-LCD er eitt mikilvægasta forritið fyrir mólýbden-sputtering skotmark í flatskjáiðnaði.
Markaðsrannsóknir sýna að næstu árin verða hámark þróunar LCD, með árlegum vexti um 30%.Með þróun LCD vex neysla á LCD sputtering markmiði einnig hratt, með árlegum vexti um 20%.
Til viðbótar við flatskjámyndastarfið, með þróun nýrrar orkustéttar, eykst notkun mólýbdensputteringsmarkmiðs í þunnfilmu sólarljósafrumum einnig.
Mólýbden sputtering markið er aðallega sputtered til að mynda rafskautslag CIGS (kopar indíum gallíum selen) þunnfilmu rafhlöðu.Mo er neðst í sólarsellu.Sem baksnerting sólarselunnar gegnir hún mjög mikilvægu hlutverki í kjarnamyndun, vexti og lýsingu á CIGS þunnfilmukristöllum.
Birtingartími: maí-10-2022