Sputtering target er rafeindaefni sem myndar þunna filmu með því að festa efni eins og málmblöndu eða málmoxíð við rafrænt hvarfefni á atómstigi.Meðal þeirra er sputtering markið fyrir myrkunarfilmuna notað til að mynda filmu á lífræna EL eða fljótandi kristal spjaldið til að sverta raflögnina og draga úr endurkasti sýnilegs ljóss (lágt endurspeglun) TFT raflagnarinnar.Sputter markið hefur eftirfarandi kosti og áhrif.Í samanburði við fyrri vörur hjálpar það til við að bæta mikla fínleika og hönnunarfrelsi ýmissa skjáa og draga úr hávaða sem stafar af raflögn endurspeglast ljós hálfleiðara tengdra vara.
Kostir og áhrif álmarkmiðs:
(1) Eftir að álmarkmiðið er myndað á raflögninni er hægt að draga úr sýnilegu ljósi
samanborið við fyrri vörur getur það náð lítilli endurspeglun.
(2) DC sputtering er hægt að framkvæma án hvarfgjarns gass
samanborið við fyrri vörur er gagnlegt að átta sig á einsleitni kvikmynda stórra undirlagsefna.
(3) Eftir að kvikmyndin er mynduð er hægt að framkvæma ætingarferlið ásamt raflögnum
stilla efnið í samræmi við núverandi ætingarferli viðskiptavinarins og geta ætið saman við raflögnina án þess að breyta núverandi ferli.Að auki mun fyrirtækið einnig veita stuðning í samræmi við sputtering skilyrði viðskiptavina.
(4) Framúrskarandi hitaþol, vatns- og basaþol
Til viðbótar við vatnsþol og basaþol, hefur það einnig mikla hitaþol, þannig að eiginleikar kvikmyndarinnar munu ekki breytast í TFT raflögnvinnsluferlinu.
Birtingartími: 10. ágúst 2022