Við vitum öll að sputtering er ein helsta tæknin til að útbúa filmuefni.Það notar jónirnar sem jónagjafinn framleiðir til að flýta fyrir söfnuninni í lofttæmi til að mynda háhraða jóna geisla, sprengja á föstu yfirborðinu og jónirnar skiptast á hreyfiorku við atómin á föstu yfirborðinu, þannig að atómin á föstu yfirborðinu Yfirborð yfirgefa fast efni og setja á yfirborð undirlagsins.Hið efni sem sprengt var á er hráefnið til að setja kvikmynd með sputtering, sem er kallað sputtering target.
Ýmsar gerðir af sputtered filmuefni hafa verið mikið notaðar í hálfleiðara samþættum hringrásum, upptökumiðlum, planum skjá, verkfærum og yfirborðshúðun á deyja og svo framvegis.
Sputtering markmið eru aðallega notuð í rafeinda- og upplýsingaiðnaði, svo sem samþættum hringrásum, upplýsingageymslu, fljótandi kristalskjám, leysiminni, rafeindastýringarbúnaði osfrv.Það er einnig hægt að nota á sviði glerhúðunar;Það er einnig hægt að nota í slitþolnu efni, tæringarþol við háan hita, hágæða skreytingarvörur og aðrar atvinnugreinar.
Það eru margar tegundir af sputtering markmiðum og það eru mismunandi aðferðir til að flokka skotmörk:
Samkvæmt samsetningunni er hægt að skipta því í málmmark, málmblöndu og keramikefni.
Samkvæmt löguninni er hægt að skipta því í langt skotmark, ferhyrnt skotmark og kringlótt skotmark.
Það má skipta í örrafræn miða, segulmagnaðir upptökumarkmið, sjóndiskamarkmið, góðmálmmarkmið, filmuviðnámsmarkmið, leiðandi filmumarkmið, yfirborðsbreytingarmarkmið, grímumarkmið, skrautlagsmarkmið, rafskautsmarkmið og önnur skotmörk í samræmi við notkunarsviðið.
Samkvæmt mismunandi forritum er hægt að skipta því í hálfleiðuratengd keramikmarkmið, skráningu miðlungs keramikmarkmiða, sýnakeramikmarkmiðum, ofurleiðandi keramikmarkmiðum og risastór segulþols keramikmarkmið.
Birtingartími: 29. júlí 2022