Eins og við vitum öll eru aðferðirnar sem almennt eru notaðar við lofttæmishúðun lofttæmi og jónasmíði.Hver er munurinn á transpiration húðun og sputtering húðun Margirfólk er með svona spurningar.Við skulum deila með þér muninum á transpiration húðun og sputtering húðun
Vacuum transpiration film er að hita gögnin sem eiga að vera transpiration að fast hitastigi með viðnámshitun eða rafeindageisla og leysishellu í umhverfi með lofttæmisstig sem er ekki minna en 10-2Pa, þannig að hitauppstreymi titringsorka sameinda eða frumeindir í gögnunum fara yfir bindiorku yfirborðsins, þannig að margar sameindir eða frumeindir flytjast út eða aukast og setja þær beint á undirlagið til að mynda filmu.Ion sputtering húðun notar mikla endurvarpshreyfingu jákvæðra jóna sem myndast við gaslosun undir áhrifum rafsviðs til að sprengja skotmarkið sem bakskaut, þannig að atóm eða sameindir í markinu sleppa og setjast á yfirborð húðaðs vinnustykkisins til að myndast. tilskilda kvikmynd.
Algengasta aðferðin við lofttæmishúðun er viðnámshitun.Kostir þess eru einföld uppbygging hitagjafa, litlum tilkostnaði og þægilegri notkun.Ókostir þess eru að það er ekki hentugur fyrir eldfasta málma og háhitaþolna miðla.Upphitun rafgeisla og leysirhitun getur sigrast á ókostum viðnámshitunar.Í rafeindageislahitun er einbeittur rafeindageislinn notaður til að hita gögnin beint og hreyfiorka rafeindageislans verður að hitaorku til að láta gögnin flytjast.Laserhitun notar aflmikinn leysir sem upphitunargjafa, en vegna mikils kostnaðar við aflmikinn leysir er aðeins hægt að nota hann á fáum rannsóknarstofum.
Sputtering færni er frábrugðin tómarúm transpiration færni.Sputtering vísar til þess fyrirbæri að hlaðnar agnir sprengjast aftur á yfirborð (markmið) líkamans, þannig að fast atóm eða sameindir berast frá yfirborðinu.Flestar losaðar agnir eru frumeindir, sem oft er kallað sputtered atóm.Sputtered agnir sem notaðar eru til að sprengja skotmörk geta verið rafeindir, jónir eða hlutlausar agnir.Vegna þess að auðvelt er að fá jónir sem krafist er hreyfiorku undir rafsviði eru jónir að mestu valdar sem hýðiagnir.
Sputtering ferlið byggist á glóðarútskrift, það er að sputtering jónirnar koma frá gaslosun.Mismunandi sputtering færni hefur mismunandi ljóma losun aðferðir.DC díóða sputtering notar DC ljómaútskrift;Tríóða sputtering er glóðarútskrift sem studd er af heitu bakskauti;RF sputtering notar RF ljómaútskrift;Magnetron sputtering er ljómaútskrift sem er stjórnað af hringlaga segulsviði.
Í samanburði við lofttæmishúð hefur sputtering húðun marga kosti.Ef hægt er að sputtera einhverju efni, sérstaklega frumefni og efnasambönd með hátt bræðslumark og lágan gufuþrýsting;Viðloðunin milli sputtered filmu og undirlags er góð;Hár filmuþéttleiki;Hægt er að stjórna filmuþykktinni og endurtekningarhæfni er góð.Ókosturinn er sá að búnaðurinn er flókinn og þarfnast háspennutækja.
Að auki er sambland af transpiration aðferð og sputtering aðferð jónhúðun.Kostir þessarar aðferðar eru sterk viðloðun milli filmunnar og undirlagsins, hár útfellingarhraði og hár þéttleiki filmunnar.
Pósttími: maí-09-2022