1. Magnetron sputtering aðferð:
Magnetron sputtering má skipta í DC sputtering, miðlungs tíðni sputtering og RF sputtering
A. DC sputtering aflgjafi er ódýr og þéttleiki lagaðrar filmu er lélegur.Almennt eru innlendar ljóshita- og þunnfilmu rafhlöður notaðar með lítilli orku og sputtering markmiðið er leiðandi málmmarkmið.
B. RF sputtering orkan er mikil og sputtering markið getur verið óleiðandi skotmark eða leiðandi skotmark.
C. Miðlungs tíðni sputtering skotmark getur verið keramik skotmark eða málm skotmark.
2. Flokkun og beiting sputteringsmarkmiða
Það eru margar tegundir af sputtering markmiðum og markflokkunaraðferðirnar eru líka mismunandi.Samkvæmt löguninni er þeim skipt í langt skotmark, ferhyrnt skotmark og kringlótt skotmark;Samkvæmt samsetningunni er hægt að skipta því í málmmarkmið, álmarkmið og keramikefnasambandsmarkmið;Samkvæmt mismunandi notkunarsviðum er hægt að skipta því í hálfleiðuratengd keramikmarkmið, upptöku miðlungs keramikmarkmiða, sýna keramikmarkmið osfrv. Sputteringsmarkmið eru aðallega notuð í rafeinda- og upplýsingaiðnaði, svo sem upplýsingageymsluiðnaði.Í þessum iðnaði eru sputteringsmarkmið notuð til að undirbúa viðeigandi þunnfilmuvörur (harður diskur, segulhaus, sjóndiskur osfrv.).Sem stendur.Með stöðugri þróun upplýsingaiðnaðarins eykst eftirspurnin eftir upptöku miðlungs keramikmarkmiða á markaðnum.Rannsóknir og framleiðsla á upptökumiðlum hefur orðið í brennidepli í mikilli athygli.
Birtingartími: maí-11-2022