Heildverslun CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð Framleiðandi og birgir |Ríkur

Króm ál

CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð Valmynd

Stutt lýsing:

Flokkur	Alloy sputtering Target
Efnaformúla	CrAl
Samsetning	Króm ál
Hreinleiki	99,7%，99,9%，99,95%，99,99%
Lögun	Plötur, dálkamiðar, bogaskautar, sérsniðnar
Framleiðsluferli	Tómarúm bráðnun, PM
Stærð í boði	L≤2000mm, B≤200mm

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

Framleiðsla á krómálspúttunarmarkmiðum samanstendur af eftirfarandi skrefum:

1. Duft mala og blanda.

2. Heitt isostatic pressa meðferð til að fá hálfunnar vörur.

3. Vinnsla á gróft króm álblöndu sputtering miða efni til að fá króm ál ál sputtering miða efni.

Við útfellingarferli CrAl sputtering skotmarka myndast hörð ál-króm-nítríð (AlCrN) húðun.Þessi húðun sýnir mikla hörku og oxunarþol eiginleika jafnvel við háan hita.Skerirnir gætu keyrt á mikilli straumi til að auka framleiðni og auka gæði þegar CNC vélar eru notaðar.

Dæmigerð AlCr markmið okkar og eiginleikar þeirra

	Cr-70Alá%	Cr-60Alá%	Cr-50Alá%
Hreinleiki (%)	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95
Þéttleiki（g/cm³）	3.7	4.35	4,55
Grigning Stærð(µm)	100/50	100/50	100/50
Ferli	HIP	HIP	HIP

Rich Special Materials sérhæfir sig í framleiðslu á sputtering Target og gæti framleitt álkróm sputtering efni í samræmi við forskrift viðskiptavina.Vörur okkar eru með framúrskarandi vélrænni eiginleika, einsleita uppbyggingu, fágað yfirborð án aðskilnaðar, svitahola eða sprungna.Fyrir frekari upplýsingar, vinsamlegast hafðu samband við okkur.

Fyrri: CoFe Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Sérsniðin

Næst: AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD húðun Sérsmíðuð